В широкому діапазоні змін концентрації фотоініціатора, товщини шару фотокомпозиції, температури та інтенсивності інтегрального УФ-освітлення досліджена кінетика стаціонарної фотоініційованої полімеризації ряду метакрилатів до глибоких конверсій. На базі цього експериментального матеріалу згідно концепції мікрогетерогенності системи, що полімеризується, запропонована кінетична модель стаціонарної лінійної термо- та фотоініційованої полімеризації метакрилатів до глибоких конверсій із врахуванням проходження процесу у трьох реакційних зонах: рідкій мономер-полімерній фазі, міжфазному шарі на границі мономер-полімерної фази і мікрозерен полімер-мономерної фази і умовно “твердому” полімер-мономерному розчині, яка кількісно погоджується з представленим набором експериментальних даних.
Досліджена кінетика нестаціонарної полімеризації (постполімеризація) метакрилатів в широкому діапазоні змін початкових конверсії темнового періоду. Показано, що помітний пост-ефект спостерігається на стадії автоприскорення, тобто з початком виділення полімер-мономерної фази і утворенням відповідного міжфазного шару на границі розділу мономер-полімерної фази та полімер-мономерної фази, які і виступають новими реакційними зонами.
Запропонована кінетична модель постполімеризації з лінійним обривом ланцюга в полімер-мономерній фазі. Показано, що процес полімеризації в зернах полімер-мономерної фази має широкий спектр характеристичних часів, а використання закону розтягненої експоненти дало можливість отримати інтегральну оцінку процесу та кількісно оцінити константи швидкостей лінійного обриву ланцюга.
Отримані значення констант обриву ланцюга метакрилатів за порядком величини співпадають з константами швидкостей лінійного обриву первинних ланцюгів диметакрилатів та діакрилатів, що свідчить про тотожність механізмів лінійного обриву ланцюга в процесі росту активного радикалу для моно– і диметакрилатів.
Вперше запропонований перспективний метод склеювання непрозорих поверхонь на основі пост-ефекту та склад фотокомпозиції з високими значеннями міцності зсуву адгезійних з’єднань.
Отримано оптимальний склад фотокомпозиції і умови проведення процесу для формування високоселективних, стійких до атмосферних та хімічних впливів мембран на основі олігокарбонатметакрилатів. Даний спосіб дає змогу формувати полімерну мембрану безпосередньо в ході фотополімеризації і оминути стадію попереднього отримання полімеру.